28nm以上制程的成熟芯片有望實現(xiàn)全流程國產(chǎn)化了!
28nm雖然不是特別先進技術，但意義依然重大，因為這是芯片中低端和中高端的分界線，目前除了最先進的CPU、GPU、AI芯片外，其余的工業(yè)級芯片大多都是28nm以上技術。
9月9日，工業(yè)和信息化部印發(fā)《首臺(套)重大技術裝備推廣應用指導目錄(2024年版)》的通知：
氟化氪光刻機與氟化氬光刻機都屬于深紫外(DUV)光刻機的范疇，它們的工作原理基于利用特定波長的光源通過光學系統(tǒng)和投影物鏡，將集成電路的微觀圖案精確地投影到硅片上的光刻膠層。這兩種光刻機的主要區(qū)別在于它們使用的光源波長：
氟化氪光刻機： 采用248nm波長的光源，能夠實現(xiàn)110納米以下的分辨率，適用于多種集成電路制造工藝。
氟化氬光刻機： 使用193nm波長的光源，提供更高的分辨率，能夠實現(xiàn)65納米以下的制程技術，為更精細的電路制造提供了可能。
這兩種光刻機的出現(xiàn)，不僅是技術上的一次飛躍，更是產(chǎn)業(yè)自主化的重要里程碑：
技術突破： 氟化氪與氟化氬光刻機的成功研發(fā)，標志著我國在高端光刻技術領域取得了顯著進展，為半導體制造提供了強有力的技術支持。
產(chǎn)業(yè)升級： 高精度光刻機的引入，使得國內半導體產(chǎn)業(yè)能夠制造更復雜、更高性能的集成電路，推動了整個產(chǎn)業(yè)鏈的技術升級和產(chǎn)品創(chuàng)新。
經(jīng)濟效益與國家安全： 通過減少對外部技術的依賴，這些光刻機有助于提升國內半導體產(chǎn)業(yè)的自給自足能力，增強經(jīng)濟和產(chǎn)業(yè)的安全性。
在光刻機的運行過程中，精確的溫度控制對于保證光刻質量和產(chǎn)量至關重要。冷水機作為冷卻系統(tǒng)的核心組件，其作用不容小覷：
控溫需求： 光刻機在曝光過程中對溫度極為敏感，因此需要冷水機提供高精度的溫度控制，以維持光刻機的穩(wěn)定性和重復性。
冷水機的作用： 通過循環(huán)冷卻水，冷水機能夠有效地帶走光刻機在運行中產(chǎn)生的熱量，確保設備在適宜的溫度范圍內工作，從而保障光刻過程的精確性和可靠性。
特域冷水機超快激光冷水機CWUP系列，可以光刻機提供精密穩(wěn)定持續(xù)控溫，其中 CWUP-20ANP 溫控精度達到±0.08℃，為精密加工領域提供高效的冷卻解決方案。
在半導體制造的精密世界里，光刻機是實現(xiàn)微細電路圖案轉移的核心設備。隨著技術的進步，氟化氪光刻機與氟化氬光刻機以其卓越的性能，成為了推動行業(yè)發(fā)展的重要力量。
